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回顾武汉三十年筚路蓝缕走出追光路

筚路蓝缕,以启山林,这是老一辈拓荒者在光谷留下的创新创业史。而今,从落后到并跑,再到逐步领先,光谷在光电子信息产业领域独树一帜,更多中国企业开拓进取、敢创会闯,在世界范围内拿下行业话语权。...

07-31

大口径光学反射镜的制造过程

如果把光学望远镜比作人类的“千里眼”,那么光学望远镜中的主反射镜就可以称之为“眼角膜”。主反射镜的口径越大就意味着光学望远镜的空间分辨率就会越高。通俗的说就是会看得更加清楚。现在,在全球的光学望远镜中,主反射镜采用碳化硅材料、口径最大的那一块就诞生于中国科学院长春光机所的实验室里。...

07-30

南京大学现代工程与应用科学学院微纳光学研究进展

微纳光学是新世纪以来蓬勃发展的研究领域,超构光子学是其一个重要分支,它关注亚波长尺度下操控光的传播,为光学器件和技术带来新的设计思想和方案。...

07-26

上海市超构表面光场调控重点实验室-国内超构表面先行者

超构表面必将在电磁隐身、光学芯片、能源利用和生物检测等诸多领域获得广泛应用。...

07-26

超精密抛光技术简介

在超精密抛光领域,国外在超精密抛光技术上具有显著优势,尤其是日本、德国和美国。在设备和工艺水平上,这些国家都已经实现了纳米级精度的抛光,我国与国际先进水平还有一定差距。...

07-02

AR眼镜主流光波导方案介绍

表面浮雕光栅波导同时具有轻薄、视场角大、眼动范围大、量产成本低的优势,因此被普遍认为是AR行业主流显示技术路线。...

06-26

电子束曝光技术及发展概述

电子束曝光(EBL,也称之为电子束光刻)始于上世纪60年代,是在电子显微镜的基础上发展起来的用于微电路研究和制造的曝光技术,是半导体微电子制造及纳米科技的关键设备、基础设备。电子束曝光是由高能量电子束和光刻胶相互作用,使胶由长(短)链变成断(长)链,实现曝光,相比于光刻机具有更高的分辨率,主要用于制作光刻掩模版、硅片直写和纳米科学技术研究。...

06-25

微纳光子学研究进展与展望

总体而言,美国、日本、欧盟和中国等国家在微纳光子学领域处于全球第一梯队。加强微纳光子学的成果转化和产业发展将有助于我国在微纳光子学研究和应用方面取得领先地位。...

06-25
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