我国光学薄膜行业在光学特性、环境适应性、规定的试验方法等三方面有新标准可以遵循了!
这三项新标准等同采用ISO国际标准，由沈阳仪表院汇博光学、浙江大学、同济大学、大连化学物理研究所、杭州科汀光学技术有限公司、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心等单位共同参与起草，于7月1日起正式实施，在光学薄膜技术与国际接轨道路上具有里程碑意义。
此次完成的三项光学薄膜国家标准分别是：
GB/T 26332.2-2015/ISO 9211-2:2010
光学和光子学 光学薄膜 第2部分：光学特性
共同参与起草的浙江大学在光学光电子薄膜及光电显示方面都取得国际先进的科研成果，顾培夫教授、章岳光教授是国内光学与光电子薄膜及液晶投影显示领域的专家。
GB/T 26332.3-2015/ISO 9211-3:2008
光学和光子学光学薄膜第3部分：环境适应性
共同参与起草的大连化学物理研究所在光学镀膜和激光机理方面有突出贡献，孙龙教授、邓淞文、王锋等专家在此领域有深入研究。
GB/T 26332.4-2015/ISO 9211-4:2012
光学和光子学光学薄膜第4部分：规定的试验方法
共同参与起草的同济大学在我国尖端光学薄膜技术、极紫外与软X射线及X射线多层膜光学技术等领域有多项科研成果。王占山教授在此领域有深入研究，程鑫彬教授在高损伤阈值激光薄膜方面有深入研究。
感谢以上共同起草单位和专家对标准编撰工作的大力支持和贡献，沈阳仪表院汇博光学将一如既往的联合国内光学薄膜行业的领导者开展国家标准组织制定工作，发挥标准促进科技进步的作用，为我国光学薄膜领域的标准化作新的更大贡献。
沈阳仪表院汇博光学已经连续牵头制定了7项光学薄膜国家标准，以及多项光学薄膜行业标准，这些标准的制定和实施引领和指导行业技术进步，规范行业发展。
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