藉由位於北美及歐洲的研究與發展中心，以及在 50 多個國家的銷售與服務運作，FEI 為全球客戶提供次埃級解析度以用於分析及修改。公司的歷史反映出其在真實世界創新的核心焦點所在。
2005
- FEI 推出 Titan™ 80-300 kV TEM，這是可在市面上購得之世界上功能最強的透射電子顯微鏡。
2004
- FEI 以 200kV Tecnai™ 與單色器及 CS 校正突破了 1 埃的界限。
2003
- FEI 併購 Revise Inc.。
- FEI 併購 Emispec (ESVision)。
2002
- FEI 併購 Atomika (SIMS)。
2001
- FEI 推出適用於實驗室的應用特定 DualBeam 系統。
- 第一個單色器 TEM。
2000
- 推出第一個小型 DualBeam。
1999
- FEI 併購 Micrion Corporation 並整合產品線及運營。
1998
- FEI 及 Micrion 分別提供用於資料儲存製造應用的磁頭調整解決方案。
- 推出多功能的 TEM (Tecnai)。
1997
- FEI 與 Philips Electron Optics 合併。
- 裝運第一個晶圓製程適用的同軸 DualBeam。
1996
- FEI 裝運第 5000 個 LMI 源。
- Micrion 發行其用於 IC 光罩修補的 8000 系列 FIB。
- Philips Electron Optics 併購 ElectroScan 及其 ESEM 技術。
- Philips Electron Optics 併購位於捷克共和國布爾諾的 Delmi。
1995
- FEI 裝運第 100 個 FIB 工作站。
1993
- FEI 及 Philips Electron Optics 生產第一個 DualBeam™ (FIB/SEM) 工作站
1990
- Philips Electron Optics 推出用於 6 寸半導體晶圓的 SEM。
1989
- FEI 裝運第一個完整聚焦離子束 (FIB) 工作站。
1985
- Micrion 裝運其第一個系統
1983
- FEI 裝運第一個靜電聚焦電鏡柱體。
- 成立 Micrion 以開發用於光罩修補的電子束系統。
1982
- FEI 裝運第一個 LMI 聚焦電鏡柱體。
1981
- FEI 研發出液相金屬離子 (Liquid Metal Ion，LMI) 源。
1971
- 成立 FEI 以提供用於場發射研究的高純度定向單晶材料。
1958
- Philips Electron Optics 以 EM200 突破 TEM 的 10 埃界限。
1949
- Philips Electron Optics (1997 年後成為 FEI Company 的一份子) 是首先開始大量生產透射電子顯微鏡的公司之一。
产品系列
FEI 系統是設計、策劃與製造來處理多樣化市場範圍廣泛的應用需求。不同類型的系統提供一般使用者不同的功能。FEI 系列類型包括：
SEM 用於運用放大範圍檢驗材料形勢，包括光學顯微鏡的形勢，並延伸到納米級。它們也提供化學成份分析。
TEM 使用高伏特的電子束來獲得超高解析度的樣品圖像，可以細到次埃層級，以利分析原子結構、晶體結構與試片成份。
DualBeam™ 系統是 3D 顯微鏡與分析 (以提供材料特性描述、行業故障分析與流程控制應用) 的偏好解決方案。它們是設計來提供小於 1 納米的整合式樣品製備與微分析，以獲得高產能的半導體與資料儲存 Fab 以及材料科學與生命科學實驗室。
IB 系統利用微細聚焦鎵離子束，在低束電流下操作以成像，以及在高束電流下操作以進行特定位置的銑切。它們的多樣化使它們廣泛用於各種應用方式，包括先進的電路編輯、半導體光罩的修補，以及揭露先進材料與裝置外表底下的缺陷。
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