湖南普照信息材料有限公司—中国光学光电子行业网

　公司创立于2003年8月，位于长沙国家高新技术产业开发区岳麓山高科技园（麓谷），注册资本金8000万元，由湖南电子信息产业集团有限公司与湖南金智高科技发展有限责任公司合资组建。作为公司的控股股东，湖南电子信息产业集团是首批进入国资委监管的省属大型企业之一，在电子信息材料、彩色显示器件、计算机软硬件、电子元器件、网络应用设备以及数字多媒体信息设备等多个电子信息产业领域具有相当雄厚的科研开发和生产经营实力。

　匀胶铬版是当前和未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料，它具有高感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用寿命长等优点，成为制作高精度、超微细图形的关键材料（基版），产品广泛应用于集成电路芯片制造、集成电路高密度引线框架、半导体元器件、新型平板显示器件（LCD、PDP、VFD）和多层高密度印制板（PCB）等多种产业。

　　近年来我国上述产业高速发展，而制作这些产品的掩膜版所需硬面光掩膜材料——高精度匀胶铬版，却一直依赖进口。为适应我国集成电路（特别是VLSI、ULSI）、新型元器件等产业的发展需要，增强产业配套能力，促进我国信息产业向更高层次快速发展，公司采用当前世界最先进生产、检测设备以及工艺技术，结合公司独创技术，建成能够生产2.5”×2.5”至22”×26”各种规格匀胶铬版的自动化生产线。

产品系列

　　　匀胶铬版（光掩膜基版）

　　　　小面积光掩膜基版

　　　　大面积光掩膜基版

　　　镀膜匀胶

　　　分析测试

公司地址：湖南省长沙国家高新区麓谷新城麓枫路40号
电话：+86-731-8998246
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