国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜（直写式）光刻机在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华带队的专家鉴定组在鉴定后认为，该成果在国际同类产品中处于先进水平，分辨率已经达到亚微米，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白。
据研发公司负责人介绍，这台光刻机分辨率达到0.65微米以下，同时，自主专利技术的运用极大提高了产能，从这两项关键性能指标来看，已经处于世界同类产品领先水平。该产品的问世也标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。
该产品在兼顾了高产能与高分辨率的同时，极大地降低了使用成本，与国际同类产品相比，其价格不到国外的1/3。
据了解，光刻机是生产半导体芯片的最关键设备，目前我国半导体设备业是半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一。
从芯硕半导体公司了解到，该公司此项技术投入资金5000万元，历经一年时间，两台光刻机已于去年12月正式下线，其分辨率已达到0.65微米。相对于同类产品，芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势。芯硕半导体公司董事、副总裁胡亦宁预测，在今年7月、8月公司新厂房完工之后，预期每年可生产100台，其中60%%的产品将供应给海外市场。
我国半导体设备业是半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一，但在此之前，国内对于半导体芯片制造中最核心的设备———光刻机的需求，却全部依赖进口，国产品牌的亚微米级光刻机还是空白。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。此外，相关负责人表示，该公司计划今年年底生产第一台掩膜式光刻机，继续向高端半导体技术进行挑战。科研人员在操作光刻机。
“合肥市非常有眼光，引进这样一项填补国内空白的项目。”昨天，两位中国工程院院士张钟华、叶声华，在合肥为中国首台高精度“光刻机”做鉴定并高度“喝彩”。
张钟华院士在刚刚落幕的２００７年国家科技奖励大会上获得国家科技进步一等奖，他与叶声华院士分别是国内顶级的精密电磁测量专家和测试计量技术及仪器专家。受合肥市邀请，昨天他俩来肥领衔为中国首台高精度“光刻机”进行技术鉴定（该“光刻机”本报曾多次做过独家报道）。９人专家组为该机做出高度评价：“产品填补了国内空白，整体技术在同类产品中达到国际先进水平，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。”
1月25日下午，两院士在合肥经济开发区“光刻机”鉴定新闻发布会上盛赞合肥市政府和领导的眼光，“合肥市领导非常有远见，在该项目实施初期就意识到它的重要性和高科技性，慧眼把光刻机这样的先进技术引到合肥。这样的技术不仅填补国内空白，而且对创造经济价值和社会效益都具有非常大的意义。”
据悉，２００５年，来自美国硅谷的５名投资创业者来到合肥，投资研发国内首台直写式“光刻机”。去年１１月底，该机成功面世。
据介绍，该项目之所以重大高端，是因为“光刻机是生产芯片的最关键设备，由一片空白的晶圆成为一块电子元器件，其中所有的电路图案都是由光刻机制作的”。我国目前已成为全球最大的集成电路消耗国，据统计，所用集成电路占全球的２４％以上，但集成电路国内市场自给率却少于１０％，故而光刻机被国家“十一五”发展规划明确定义为重点制造装备。
据悉，在合肥制造的直写式光刻机分辨率达到亚微米级，在主要性能指标分辨率等方面，与目前在此领域先进的日本和德国同类产品相比，处于世界领先水平，而该机的价格不到国外的１／３。
