藉由位於北美及歐洲的研究與發展中心，以及在 50 多個國家的銷售與服務運作，FEI 為全球客戶提供次埃級解析度以用於分析及修改。公司的歷史反映出其在真實世界創新的核心焦點所在。

2005

1. FEI 推出 Titan™ 80-300 kV TEM，這是可在市面上購得之世界上功能最強的透射電子顯微鏡。

2004

1. FEI 以 200kV Tecnai™ 與單色器及 CS 校正突破了 1 埃的界限。

2003

1. FEI 併購 Revise Inc.。
2. FEI 併購 Emispec (ESVision)。

2002

1. FEI 併購 Atomika (SIMS)。

2001

1. FEI 推出適用於實驗室的應用特定 DualBeam 系統。
2. 第一個單色器 TEM。

2000

1. 推出第一個小型 DualBeam。

1999

1. FEI 併購 Micrion Corporation 並整合產品線及運營。

1998

1. FEI 及 Micrion 分別提供用於資料儲存製造應用的磁頭調整解決方案。
2. 推出多功能的 TEM (Tecnai)。

1997

1. FEI 與 Philips Electron Optics 合併。
2. 裝運第一個晶圓製程適用的同軸 DualBeam。

1996

1. FEI 裝運第 5000 個 LMI 源。
2. Micrion 發行其用於 IC 光罩修補的 8000 系列 FIB。
3. Philips Electron Optics 併購 ElectroScan 及其 ESEM 技術。
4. Philips Electron Optics 併購位於捷克共和國布爾諾的 Delmi。

1995

1. FEI 裝運第 100 個 FIB 工作站。

1993

1. FEI 及 Philips Electron Optics 生產第一個 DualBeam™ (FIB/SEM) 工作站

1990

1. Philips Electron Optics 推出用於 6 寸半導體晶圓的 SEM。

1989

1. FEI 裝運第一個完整聚焦離子束 (FIB) 工作站。

1985

1. Micrion 裝運其第一個系統

1983

1. FEI 裝運第一個靜電聚焦電鏡柱體。
2. 成立 Micrion 以開發用於光罩修補的電子束系統。

1982

1. FEI 裝運第一個 LMI 聚焦電鏡柱體。

1981

1. FEI 研發出液相金屬離子 (Liquid Metal Ion，LMI) 源。

1971

1. 成立 FEI 以提供用於場發射研究的高純度定向單晶材料。

1958

1. Philips Electron Optics 以 EM200 突破 TEM 的 10 埃界限。

1949

1. Philips Electron Optics (1997 年後成為 FEI Company 的一份子) 是首先開始大量生產透射電子顯微鏡的公司之一。

产品系列

FEI 系統是設計、策劃與製造來處理多樣化市場範圍廣泛的應用需求。不同類型的系統提供一般使用者不同的功能。FEI 系列類型包括：

掃描電子顯微鏡 (SEM)

SEM 用於運用放大範圍檢驗材料形勢，包括光學顯微鏡的形勢，並延伸到納米級。它們也提供化學成份分析。

透射電子顯微鏡 (TEM)

TEM 使用高伏特的電子束來獲得超高解析度的樣品圖像，可以細到次埃層級，以利分析原子結構、晶體結構與試片成份。

DualBeam 系統

DualBeam™ 系統是 3D 顯微鏡與分析 (以提供材料特性描述、行業故障分析與流程控制應用) 的偏好解決方案。它們是設計來提供小於 1 納米的整合式樣品製備與微分析，以獲得高產能的半導體與資料儲存 Fab 以及材料科學與生命科學實驗室。

聚焦離子束 (FIB) 工具

IB 系統利用微細聚焦鎵離子束，在低束電流下操作以成像，以及在高束電流下操作以進行特定位置的銑切。它們的多樣化使它們廣泛用於各種應用方式，包括先進的電路編輯、半導體光罩的修補，以及揭露先進材料與裝置外表底下的缺陷。

网址：http://www.fei.com